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投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目

项目时间:2021年6月

项目地点:北京经济技术开发区0606街区YZ00-0606-0024地块

项目规模:建筑面积109930.89平方米(单体最大面积58400平方米,最大单跨跨度16.8米)

项目概述

建设单位北京国望光学科技有限公司是国产光刻机核心部件生产商。该项目建成后,将加速实现中高端光刻机的国产化。公司将通过严格监理、优质服务,助力中国早日突破中高端光刻机制造“卡脖子”难题。

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